PVD-/PECVD-Anlage (Sputter)

  • Substratgröße im Durchschnitt 200mm
  • Schichtabscheidung im DC oder Kathodenbetrieb
  • Verstellbare Kathoden in konfokaler Anordnung
  • 2 RF Stromversorgungen (13,56 MHz) für die Kathoden mit Autotuning
  • 2 DC Stromversorgungen für die Kathoden 2000 W mit Pulsoption
  • 1 BIAS-Stromversorgung 3 KW mit Pulsbetrieb
  • Substrat-Biasbetrieb (Ätzbetrieb) mit DC und gepulstem DC
  • geregelte Substratheizung
  • Drehschieber-Vorpumpe 2-stufig
  • 1 Turbomolekularpumpe
  • Verschiedene Manometer
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